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Artifact Free Metrology by Crosstalk Elimination

• 独特的解耦XY轴扫描系统提供平滑的扫描平台
• 精确的特征特亮和行业领先的仪表统计功能
• 卓越的工具匹配

CD Measurements

出众的精确且精密纳米测量在提高效率的同时，也为重复性与再现性研究带来最高的分辨率和最低的仪表西格玛值。

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Precision Nanometrology Measurements

Sub-Nano Roughness Measurements of Substrates & Media

凭借行业最低的噪声和创新的True Non-ContactTM模式，XE-Wafer在最平滑的媒介和基体样品上实现最精确的粗糙度测量。

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Accurate Angle Measurements

Z轴扫描正交性的高精度校正让角度测量时精确度小于0.1度。

 

Trench Measurements

独有的True Non-Contact模式能够线上无损测量小至45 nm的细节。

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Accurate TSV CMP Profiling Measurement

借助低系统噪声和平滑轮廓扫描功能，Park Systems实现了前所未有的硅通孔化学机械研磨(TSV CMP)轮廓测量。

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Park XE-Wafer features

Fully Automated Pattern Recognition

Automatic Measurement Control

 

True Non-Contact Mode & Longer Tip Life

Flexure Based Decoupled XY & Z Scanner

Industry’s Lowest Noise Floor

 

 

规格参数

商品货号： indafm3

商品品牌： Park

商品重量： 1.000千克

上架时间： 2019-02-22