F30系列
监控薄膜沉积，最强有力的工具
F30 光谱反射率系统能实时测量沉积率、沉积层厚度、光学常数 (n 和 k 值) 和半导体以及电介质层的均匀性。
样品层
分子束外延和金属有机化学气相沉积: 可以测量平滑和半透明的，或轻度吸收的薄膜。 这实际上包括从氮化镓铝到镓铟磷砷的任何半导体材料。
型号 测试厚度范围 波长选配
F30 15nm-70µm 380-1050nm F30-EXR 15nm - 250µm 380-1700nm F30-NIR 100nm - 250µm 950-1700nm F30-UV 3nm-40µm 190-1100nm F30-UVX 3nm - 250µm 190-1700nm F30-XT 0.2µm - 450µm 1440-1690nm 产品配置
•极大地提高生产力•低成本 —几个月就能收回成本•A精确 — 测量精度高于 ±1%•快速 — 几秒钟完成测量•非侵入式 — 完全在沉积室以外进行测试•易于使用 — 直观的 Windows™ 软件•几分钟就能准备好的系统配件选购镜头组
规格参数
