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F20单点膜厚测量仪(SHNTI)
F20单点膜厚测量仪(SHNTI)
采用光谱反射技术实现nm到mm级薄膜厚度测量的单点光学膜厚测试系统。欢迎咨询,价格面议,电话:021-64283335,邮箱:admin@shnti.com
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商品描述:

规格参数

     KLAFilmetrics 系列利用光谱反射技术实现薄膜厚度的精确测量,其测量范围从 nm-mm,可实现如光刻胶、氧化物、硅或者其他半导体膜、有机薄膜、导电透明薄膜等膜厚精确测量,被广泛应用于半导体、微电子、生物医学等领域。Filmetrics 具有 F10-HC、F20、F32、F40、F50、F60-t 等多款产品,可测量从几 mm 450mm 大小的样品,薄膜厚度测量范围 1nm mm 级。

       测量原理-光谱反射

       光谱椭圆偏振仪 (SE) 和光谱反射仪 (SR) 都是利用分析反射光确定电介质,半导体,和金属薄膜的厚度和折射率。 两者的主要区别在于椭偏仪测量小角度从薄膜反射的光, 而光谱反射仪测量从薄膜垂直反射的光。光谱反射仪测量的是垂直光,它忽略偏振效应 (绝大多数薄膜都是旋转对称)。 因为不涉及任何移动设备,光谱反射仪成为简单低成本的仪器。光谱反射仪可以很容易整合加入更强大透光率分析。光谱反射仪通常是薄膜厚度超过 10um 的首选,而椭偏仪侧重薄于 10nm 的膜厚。在 10nm  10um 厚度之间,两种技术都可用。

 

 

 

    主要应用

    测量厚度、折射率、反射率和穿透率:

  • 单层膜或多层膜叠加
  • 单一膜层
  • 液态膜或空气层

    技术能力

    光谱波长范围:190-1700 nm

    厚度测量范围:1nm-250 μm

    测量n&k小厚度:50 nm

    准确度:取较大值,1nm 或 0.2%

    分辨率:0.02nm

    稳定性:0.05nm

    光斑大小:1.5mm

    样品尺寸:直径从 1mm 到 300mm 或更大

    半导体薄膜:光刻胶、工艺薄膜、介电材料

    液晶显示:OLED、玻璃厚度、ITO

    光学镀膜:硬涂层厚度、减反涂层

    高分子薄膜:PI、PC

 

 

 

 

 

 

Tel:021-64283335

Email:admin@shnti.com

规格参数
  • 商品货号: SHNTI-F20
  • 商品品牌: KLA-Filmetrics
  • 商品重量: 60.000千克
  • 上架时间: 2022-11-10
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