EIS-200是Elionix推出的一款基于电子回旋共振技术（ECR）的小型离子束蚀刻系统，特别适合于科研用离子束刻蚀、减薄，清洗、沉积等。
EIS-200原理：
利用ECR技术产生高能Ar+离子束，Ar+离子束通过电场加速到达样品表面，对样品进行物理的轰击达到刻蚀作用。
EIS-200具有以下优点：
方向性好，各向异性，陡直度高，侧向刻蚀少
分辨率高
不受刻蚀材料限制，可对石英等材料进行蚀刻
可控制蚀刻Taper角
可以设定多样的实验条件
NPD(纳米图案成膜单元)选项（如下图）
主要功能
纳米级图案刻蚀
高深宽比蚀刻
离子束沉积
表面清洁
离子减薄
技术能力
应用
纳米级图案刻蚀、高深宽比蚀刻、表面清洁、离子减薄等
SiO2 on Si substrate
Diamond Substrate（金刚石）
Quartz (Mask)
Oriented PET film
Tel:021-64283335
Email:admin@shnti.com
规格参数
