激光光刻系统是经济型、具有高分辨率的图形发生器。适用于小批量掩膜版制作和直写需求。拥有多种选配模块，例如:正面和背面对准系统;405nm和375nm波长的激光发生器;高级选配:位置精度校准和自动上下版加载系统。
已成为生命科学、先进封装、MEMS、微光学、半导体和所有其他需要微结构的应用中应用普遍的光刻研究工具。
原理
利用强度可变的激光束对基片表面的抗蚀材料实施变剂量曝光，显影后便在抗蚀层表面形成要求的结构轮廓。
优点：
Ÿ 高分辨率
Ÿ 无掩模光刻
Ÿ 多种可选配模块
Ÿ 灵活性与可定制性
Ÿ 可以设定多样的实验条件
主要功能
Ÿ 光栅扫描曝光
Ÿ 快速曝光复杂的图形
Ÿ 灰度光刻
应用
生命科学、先进封装、MEMS、微光学、半导体及其他有微纳米结构需求的领域。
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规格参数
