BenchTop Turbo灵活、紧凑，可用于热蒸发和样品制备，是一种功能强大、用途广泛的高真空蒸发和溅射系统。其能够进行全范围、低电压（电阻）热蒸发，且可以通过溅射生产细晶粒薄膜，用于高分辨率显微镜领域。
BenchTop Turbo可安装两个靶，亦可进行共聚焦沉积，非常适合热阻蒸发、样品制备溅射和旋转遮蔽。其性能稳定，可靠性高。
用途：
低压电阻（热）蒸发 高真空镀碳镀膜 高分辨率显微镀膜
旋转遮蔽 狭缝清洁
优势：
BenchTop Turbo可节省拥挤的实验室空间，安装在32英寸宽的台面上，其具有触摸屏界面，易于维护和运行。使用辉光放电选项，可应用氩等离子体清洁SEM样品和TEM格栅，清除表面的碳氢化合物污染。 基于此特征的碳支撑膜具有亲水性，因而可用水溶液浸润。
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规格参数
