桌面式等离子清洗、蚀刻系统，等离子刻蚀&反应离子刻蚀系统
腔室结构：
型号比较：
应用：
· 刻蚀：氧化物刻蚀 RIE模式， 氮化物刻蚀RIE模式， 硅刻蚀 RIE模式， 光刻胶刻蚀 RIE模式， 聚合物（RIE+PE），二维材料 RIE
· 表面处理：亲水处理 PE模式，功能化 PE模式，粘附力增强：PE+RIE，高分子： RIE+PE
· 氧化物刻蚀
可以实现1um以下刻蚀
· 轻刻蚀（PS-b-PMMA）
· 轻刻蚀（WSe2）
· Parylene聚对二甲苯刻蚀
· 刻蚀一致性
· 钙钛矿太阳能电池
· MoS2,WS2,ReS2, 减薄
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规格参数
