VIL系列纳米图形系统（激光干涉光刻机）具有快速可重构光束传输、主动图形稳定和精确样品定位等强大功能。该系统可以通过使用标准2cm×2cm正方形或用户定义形状的图案场进行重复曝光，在8英寸大面积上产生各种纳米结构，例如1D光栅线和2D柱/孔图案，周期从240 nm到1500 nm。
1、 可实现同一晶圆上不同纳米结构的分区光刻；
2、 制作各种一维、二维纳米图案；
3、 最小线宽低于50nm；
4、 与其他同类设备的功能对比图如下：
电子束直写
激光直写
紫外光刻机
激光干涉光刻机
设备示例
代表厂商
德国的Raith和Vistec, 日本的JEOL和Elionix
海德堡和Raith
Eulitha
InterLitho
代表性产品型号
Raith
EBPG Plus
海德堡
DWL 66+
Eulitha
PhableR 100
VIL1000
主要用途
高分辨率掩模版制造和纳米结构的制备
对分辨率要求不高的掩模版制造和纳米结构制备
分辨率适中的纳米结构制备
大面积、低成本、高通量制备高分辨率周期性纳米结构，用于微纳光学、生物芯片等新兴应用
刻写的最小物理线宽
<10nm
~300nm
60nm
40nm
价格和维护成本
高
中
中
较低
自动化程度
全自动
全自动
部分手动
全自动
设备效率
低
低
高
高
需要掩模
否
否
是
否
特征尺寸调制难度
难，样品需要重新刻写
难，样品需要重新刻写
难，需要重新刻写模板
容易，几分钟可实现
Tel:021-64283335
Email:admin@shnti.com
规格参数
