基板尺寸：从5毫米到5英寸 最小特征尺寸：低至0.6μm 最大写入速度（4μm分辨率下）：200 mm2/ min 实时自动对焦系统 正面对齐 操作软件易于使用 2种可用的光学设置 曝光模块选择：光栅和/或矢量扫描 可变分辨率 绘画模式 波长（光栅扫描）：390 nm或365 nm曝光波长 波长（矢量扫描）：405 nm和/或375 nm 全景摄像头对准和检查 μMLA是新一代桌面式激光直写仪的最新技术，在科研微结构的应用领域中是一台完美入门级的工具。μMLA具有灵活性和可定制性，最小可支持毫米大小范围的样品。μMLA可根据所需的应用及需求选择:Raster Scan Exposure Module快速曝光复杂的图型;或是Vector Module曝光连续曲线，创建平滑的轮廓;μMLA还提供2个带有不同分辨率的读写镜头，可以根据不同的分辨率与速度要求进行调整，增加使用的方便性。
主要产业应用有:半导体芯片、微机电、微流体、微光学、传感器、掩膜版以及其它有微纳米结构需求的科研领域。
规格参数
